核徑跡綜合防偽標(biāo)識(shí)介紹
2019-08-30
核徑跡綜合防偽標(biāo)識(shí)圖案由每平方厘米幾十萬(wàn)到幾百萬(wàn)個(gè)微米級(jí)微孔組成。微孔在光線下反射形成白色圖案。微孔孔徑很小，孔數(shù)很多，微孔在平面上按統(tǒng)計(jì)規(guī)律分布，孔道為圓柱形，具有良好的透氣、透水性能。通過(guò)模擬試驗(yàn)，證明利用激光打孔或機(jī)械加工手段，無(wú)法制得和核微孔防偽膜類似的產(chǎn)品。
核徑跡綜合防偽標(biāo)識(shí)的制造過(guò)程是一個(gè)核物理、光電、生化等多個(gè)學(xué)科知識(shí)交織組合應(yīng)用的過(guò)程，需要強(qiáng)大的科技力量和昂貴的設(shè)備支持做保證，其技術(shù)難度高，工藝復(fù)雜性不是一般的商業(yè)企業(yè)可以涉足的。
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